Wednesday 14.4.2021
CEITEC Nano Research Infrastructure http://nano.ceitec.cz/
0:00 1:00 2:00 3:00 4:00 5:00 6:00 7:00 8:00 9:00 10:00 11:00 12:00 13:00 14:00 15:00 16:00 17:00 18:00 19:00 20:00 21:00 22:00 23:00
VERIOS
EVAPORATOR
KRATOS-XPS
RIGAKU3
UHV-PREPARATION
SUSS-WETBENCH
WITEC-RAMAN
MIRA3-XMU
CRYOGENIC
MAGNETRON
DWL
SUSS-RCD8
PARYLENE
3D-PRUSA-ORANGE
DIENER
RIE-FLUORINE
RIGAKU9
WOOLLAM-VIS
VERSALAB
NANOSAM
SIMS
ICON-SPM
MIRA
STEMI
SUSS-MA8
LASER-DICER
KEITHLEY-4200
TITAN
WOOLLAM-MIR
MPS150
UHV-DEPOSITION
UHV-MBE
ALD
BRILLOUIN
LEICACOAT-STAN
RAITH
ULTRAFAST-LASER
HELIOS
LYRA
UHV-XPS
NANOINDENTER
UHV-LEIS
LEICA-TXP
UHV-LEEM
UHV-PLD
XEF2
RIE-CHLORINE
UHV-MBE
nanoCT
WIRE-BONDER
VUVAS
SNOM-NANONICS
CITOVAC
TERS
FTIR
JAZ3-CHANNEL
TENUPOL
FISCHIONE-170
UHV-MBE
SEE-SYSTEM
SUMMIT
UHV-SPM
UHV-FTIR
THEORY-SUPPORT
NANOCALC
FISCHIONE-160
UHV-PLD
SW-BEAMER
SW-LAB
SW-TRACER
DICING-SAW
CITOPRESS
Q-LAB
EXPERIMENTAL…
VNA-MPI
TEGRAMIN
GLOVEBOX
FUMEHOOD…
FUMEHOOD…
FUMEHOOD-HF
FUMEHOOD…
FTIRMAG
FLOWBOX
ELECTROWORKSHOP
LEICACOAT-NANO
FRASCAN
LECTROPOL
FISCHIONE-200
DRIE
TIC3X
CPD-Autosamdri…
LEXT-OLS4100
CEITEC-NANO
MECHANICAL…
JPK-NANOWIZARD
PECVD-NANOFAB
ZEISS-Z1M
SAW-ACCUTOM
KERR-MICROSCOPE
PECVD
3D-PRUSA-BLUE
ZEISS-A2
NIRQUEST512
NANOSCAN
APCVD
LABOTOM5
MOCVD
DEKTAK
HENRY-MAGNET
PROTOMAT
SCIA
LAKESHORE
LPCVD-SiN
LPCVD-polySi
LITESCOPE
LIBS-Discovery
LIBS
LAURELL
IR-RAMAN
KAUFMAN
FISCHIONE-TEM…
microCT
Ghosh, Kalyan
Baishya, Kaushik
Musálek, Tomáš
Lednický, Tomáš
Lednický, Tomáš
Lednický, Tomáš
Kovařík, Martin
Roučka, Václav
Martyniuk, Oleh
Gablech, Imrich
Redondo Negrete, Edurne
Papež, Nikola
Carmiňa Claros Vargas, Martha
Lednický, Tomáš
Redondo Negrete, Edurne
Bednaříková, Vendula
Ghosh, Kalyan
Šťastný, Přemysl
David, Jiří
Krajňák, Tomáš
Černá, Lenka
Brodský, Jan
Martyniuk, Oleh
S Hrdý, Radim
Sampathkumar, Krishna
Sampathkumar, Krishna
Sampathkumar, Krishna
Kashimbetova, Adelia
Mayorga, Paula
Kiaba, Michal
Caha, Ondřej
Lednický, Tomáš
Gablech, Imrich
B Zita, Jiří
B Fecko, Peter
Brodský, Jan
S Hrdý, Radim
Fecko, Peter
Gablech, Imrich
Polčák, Josef
Sojka, Antonín
Gaňová, Martina
Červinka, Ondřej
Gablech, Imrich
Brodský, Jan
Ander Arregi Uribeetxebarria, Jon
Kiaba, Michal
U Nebojsa, Alois
Abadizaman, Farzin
Hnilica, Ján
Abadizaman, Farzin
U Michal, Staňo
Potoček, Michal
Kovařík, Martin
U Švarc, Vojtěch
Šťastný, Přemysl
Brodský, Jan
Citterberg, Daniel
Ng, Siow Woon
Vykoukal, Vít
Abadizaman, Farzin
Ng, Siow Woon
David, Jiří
Stanislav, Silvestr
Gablech, Imrich
Wojewoda, Ondřej
Bednaříková, Vendula
Vaňatka, Marek
Nekula, Zdeněk
S Man, Ondřej
Robešová, Magdaléna
Čechal, Jan
S Mirzaei, Saeed
Staněk, Jan

Upcoming trainings

Show more

Term Name Description Max. attendees
16.4. 09:00 - 13:00 Verios_basic Verios_basic: training for new users. Prerequisite: at least theoretical knowledge of SEM. Meeting point: entrance to StAn CLR labs (bldg. A, 1st floor). Bring your set of CLR stationery if you have one. Attendees: Matěj Nedvěd, Ondřej Červinka, Ivan Saldan, Marek Havlíček 3
20.4. 14:00 - 15:30 Nakládání s nebezpečnými chemickými látkami Povinné školení pro všechny nové uživatele laboratoří třídy čistoty ISO 5 (US FS class 100) a StAn. Školení je v ČJ, minimální počet uživatelů 2. Školení bude probíhat v zasedací místnosti C2.11, je zde také možnost připojit se on-line pomocí MS Teams - odkaz zde: https://teams.microsoft.com/l/meetup-join/19%3ameeting_NjgzNGZiNDUtYTI4OC00NTIzLWIwMmItMjEyOGQ3MTg3ZjMx%40thread.v2/0?context=%7b%22Tid%22%3a%22c63ce729-ca17-4e52-aa2d-96b79489a542%22%2c%22Oid%22%3a%22138f5562-3148-4d87-b8c8-174b9ab59f91%22%7d Attendees: Marie Jakešová ---
22.4. 13:00 - 17:00 Rigaku3-basic Bring your typical sample. Attendees: Anna Procházková, José Daniel Rojas Tizon 2
11.5. 13:00 - 13:25 Safety excursion - Nanocharacterization lab 4
11.5. 13:30 - 14:20 Safety excursion - Nanofabrication lab 4
11.5. 14:25 - 14:55 Safety excursion - StAn lab 4