Monday 21.10.2019
CEITEC Nano Research Infrastructure http://nano.ceitec.cz/
0:00 1:00 2:00 3:00 4:00 5:00 6:00 7:00 8:00 9:00 10:00 11:00 12:00 13:00 14:00 15:00 16:00 17:00 18:00 19:00 20:00 21:00 22:00 23:00
LYRA
KRATOS-XPS
MECHANICAL…
VERIOS
LEICACOAT-STAN
HELIOS
EVAPORATOR
RAITH
DIENER
UHV-DEPOSITION
UHV-LEEM
SUSS-WETBENCH
VERSALAB
SUSS-RCD8
WIRE-BONDER
CRYOGENIC
MAGNETRON
WOOLLAM-VIS
PECVD
RIGAKU3
UHV-XPS
FTIR
UHV-PREPARATION
PARYLENE
JAZ3-CHANNEL
DWL
UHV-PLD
NANOINDENTOR
UHV-LEIS
MIRA
MPS150
TEGRAMIN
TITAN
ALD
LEICACOAT-NANO
NANOCALC
TXP
SW-TRACER
SW-LAB
SW-BEAMER
STEMI
MIRA3_XMU
TENUPOL
DICING-SAW
SUMMIT
SEE-SYSTEM
SIMS
FumeHood6
ICON-SPM
TERS
TFP-2
FLOWBOX
FISCHIONE-160
CPD-Autosamdri…
RIGAKU9
XEF2
RAMAN
APCVD
VUVAS
CITOVAC
CEITEC-NANO
FISCHIONE-170
FumeHoodLabwar…
UHV-SPM
TIC3X
DRIE
FISCHIONE-200
UHV-MBE
LECTROPOL
Experimental…
SNOM-NANONICS
RIE-CHLORINE
GLOVEBOX
Litescope
SUSS-MA8
VNA-MPI
KERR-MICROSCOPE
LAKESHORE
LPCVD-SiN
LPCVD-polySi
PECVD-NANOFAB
LIBS
MOCVD
LAURELL
LASER-DICER
UHV
KEITHLEY-4200
KAUFMAN
FISCHIONE-TEM…
SCIA
DEKTAK
LABOTOM5
ZEISS-Z1M
3D-PRUSA MK3
FUMEHOOD…
FUMEHOOD-HF
FUMEHOOD…
RIE-FLUORINE
XERION
SAW-ACCUTOM
FUMEHOOD…
3D-PRUSA MK2.5
WOOLLAM-MIR
ZEISS-A2
OLYMPUS
SCOPE-VARIO
NIRQUEST512
NANOSAM
JPK NanoWizard
CITOPRESS
NanoScan
Holobrádek, Jakub
Kovařík, Martin
Hinkelmann, Erik
Zahradníček, Radim
Švarc, Vojtěch
T Polčák, Josef
Ng, Siow Woon
Dallaev, Rashid
Lednický, Tomáš
Eliáš, Marek
Sojka, Antonín
Sojka, Antonín
Ligmajer, Filip
Schánilec, Vojtěch
Čalkovský, Vojtěch
Kolíbal, Miroslav
Bednaříková, Vendula
Drdlík, Daniel
B Drdlík, Daniel
Šik, Ondřej
Bukvišová, Kristýna
Drdlík, Daniel
Schánilec, Vojtěch
Vaňatka, Marek
U Eliáš, Marek
Schánilec, Vojtěch
Davídková, Kristýna
Lednický, Tomáš
Davídková, Kristýna
Polat, Özgür
Čechal, Jan
Procházka, Pavel
Wagner, Margareta Ilse
Davídková, Kristýna
Dhankhar, Meena
Arregi Uribeetxebarria, Jon Ander
Horký, Michal
Dhankhar, Meena
Horký, Michal
Sobola, Dinara
U Eliáš, Marek
Číž, Tomáš
Michlíček, Miroslav
Casas Luna, Mariano
Čechal, Jan
Humlíček, Josef
Wagner, Margareta Ilse
Fecko, Peter
Lednický, Tomáš
Pálesch, Erik
Sobola, Dinara
Buršíková, Vilma
Staněk, Jan
Liška, Jiří
Liška, Jiří
Tkachenko, Serhii
Kolíbalová, Eva
Prášek, Jan

Upcoming trainings

Show more

Term Name Description
22.10. 13:00 - 14:30 Zacházení s nebezpečnými chemickými látkami Povinné školení pro všechny nové uživatele laboratoří třídy čistoty ISO 5 (US FS class 100) a StAn. Školení v ČJ, minimální počet uživatelů 2. Attendees: Jakub Pongrácz, Daniel Burda, Zdeněk Kratochvíl, Martin Mičulka, Jana Juráková, Dinara Sobola, Martin Kovařík
22.10. 14:00 - 15:00 DIENER - training Max 3 attendees. Attendees: Miroslav Bartoš
23.10. 09:30 - 13:00 Magnetron - training Max 3 attendees. Attendees: Miroslav Bartoš, Katarína Rovenská, Silvester Vančík
23.10. 13:00 - 14:30 Handling of Dangerous chemical substances Training is mandatory for all new users of class ISO 5 (US FS 100) and StAn lab. Training is in English and the minimal number of participants is 2 Attendees: Rashid Dallaev, Kirill Kamnev
23.10. 13:30 - 18:00 MIRA training max 3 att. Lyra training required
24.10. 09:00 - 13:00 Basic Raman spectroscopy trainning Duration 4 hours. Max. 1 attendee. Attendees: Peter Kepič
25.10. 09:30 - 12:00 DRIE - training Max 3 attendees. Attendees: Petra Binkova, Silvester Vančík
30.10. 09:00 - 12:00 AFM Basic Training AFM Basic Training. MAX 2 attendees. Meeting point in front of the user office.
1.11. 13:00 - 17:00 Rigaku 3 - basic Max 3 attendees.