| 0:00 | 1:00 | 2:00 | 3:00 | 4:00 | 5:00 | 6:00 | 7:00 | 8:00 | 9:00 | 10:00 | 11:00 | 12:00 | 13:00 | 14:00 | 15:00 | 16:00 | 17:00 | 18:00 | 19:00 | 20:00 | 21:00 | 22:00 | 23:00 | |
MIRA-STAN
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KRATOS-XPS
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VERIOS
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MIRA-EBL
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LYRA
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MAGNETRON
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ML3-BABY
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RIGAKU9
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TITAN
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RIE-FLUORINE
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VERSALAB
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ICON-SPM
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CRYOGENIC
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VNA-MPI
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UHV-LEEM
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UHV-XPS
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LVEM
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HELIOS
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TGA-DISCOVERY
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UHV-DEPOSITION
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FUMEHOOD…
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SPONGEBOB
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SUSS-WETBENCH
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LITESCOPE-MIRA…
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SIMS
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AMBER
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CHEMLAB-B1.14
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CHEMLAB-B1.16
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CHEMLAB-B1.18
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EVAPORATOR
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UHV-SPM
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RAITH
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FTIR-CHEMLAB
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ZWICK
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WITEC-RAMAN
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NMR
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WOOLLAM-VIS
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KERR-MICROSCOPE
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TUBE-FURNACE
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NANOSAM
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HENRY-MAGNET
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BET-ANAMET
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UHV-PREPARATION
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LaserMIRA
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STEMI
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PECVD
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SW-BEAMER
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MIRKA
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NANOCALC
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SAW-ACCUTOM
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SHAKER-B1.18
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nanoCT
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SUMMIT
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DIENER
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SUSS-RCD8
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SPINCOATER…
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PARYLENE-SCS
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Q-LAB
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nano-CT
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RTP
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ACCURION_RSE
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MINIFLEX
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SNOM-NANONICS
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RIGAKU3
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RIE-CHLORINE
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RSA
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SEE-SYSTEM
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3D-PRUSA-XL
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SW-LAB
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CITOVAC
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ULTRASONIC…
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US-CUTTER
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DWL
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JASCO
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JAZ3-CHANNEL
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VACUUM_OVEN-C1…
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FTIR
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VACUUM_OVEN-B1…
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UHV…
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VACUUM_OVEN-B1…
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VUVAS
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VISCOMETER
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L450
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WIRE-BONDER
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XEF2
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microCT
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ZETASIZER
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ULTRAFAST-LASER
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UHV…
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SW-TRACER
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TEST-RFID2
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LEICA-TXP
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TENUPOL
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FISCHIONE-160
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Test Ondra 3
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PARYLENE-DIENER
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Test O2
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TEST2
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Test školení
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TGA96
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UHV-CLUSTER
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THEORY-SUPPORT
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Heliscan
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UHV-MBE2
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UHV-MBE1
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UHV-FTIR
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UHV-LEIS
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UHV-MBE
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UHV-PLD
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TEM-SW
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MONOWAVE
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3D-PRUSA-ORANGE
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R4…
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SW-CT
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DRIE
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DHR
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DIMPLING…
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DRYING_OVEN-B1…
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LECTROPOL
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ELECTROWORKSHOP
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FLOWBOX
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TIC3X
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4-POINT
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FTIRMAG
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FUMEHOOD…
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FUMEHOOD-HF
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FUMEHOOD…
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FUMEHOOD…
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||||||||||||||||||||||||
FUMEHOOD…
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||||||||||||||||||||||||
FUMEHOOD…
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CRYOMILL
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||||||||||||||||||||||||
CPD
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Micromex
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BAMBULAB
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GLOVEBOX…
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ALD-BENEQ
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APCVD-Diffusion
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ARES
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APCVD
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NANOWIZARD
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ALD-FIJI
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DISCO-DICING…
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BET-DEGASSER
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MINIEVAP
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BRILLOUIN
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TORNADO-M4
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MECHANICAL…
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| CEITEC-NANO | ||||||||||||||||||||||||
CLR-ISO8-Lab…
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LEICACOAT-STAN
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SW-COMSOL
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LEXT
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CLARUS-680
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micro-CT-L240
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3D-PRUSA-BLACK
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WOOLLAM-MIR
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LPCVD-SiN
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LAKESHORE
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PROTOMAT
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WOOLLAM-RC2
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SUSS-MA8
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DEKTAK
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LABOTOM5
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DSC-DISCOVERY
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LITESCOPE-LYRA
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MPS150
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CITOPRESS
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NANOSCAN
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NIKON-NANO
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NIRQUEST512
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ZEISS-NANO
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ULTRACENTRIFUGE
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3D-PRUSA-BLUE
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LPCVD-polySi
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LIBS-LabSys1
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micro-CT-m300
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SCIA
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DAWN-HELEOS
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TEGRAMIN
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PECVD-NANOFAB
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LEICACOAT-NANO
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FRASCAN
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NANOINDENTER
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IS_NOVOCONTROL
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ZEISS-STAN
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FISCHIONE-TEM…
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LIBS-Discovery
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KAUFMAN
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IR-RAMAN
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K70
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KEITHLEY-4200
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R2-PECVD
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LASER-DICER
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LAURELL-NANO
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LIBS-FireFly
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UV-LASER
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| Term | Name | Description | Max. attendees |
|---|---|---|---|
| 20.3. 09:00 - 10:29 | MIRA-STAN - EDS detector | Only for users with an active MIRA-STAN certificate. Meeting point at the microscope. Attendees: Grigory Mathew, Karan Singh Surana, Nicolò Rossetti | 4 |
| 20.3. 09:00 - 12:00 | TGA Discovery | Basic training for practical operation on TGA Discovery. At the training day meeting point is in the ChemLab (B1.15) in the building B. Attendees: Lucie Žaloudková | 1 |
| 20.3. 13:30 - 15:30 | FTIR-CHEMLAB | Meeting point in Chemlab. Attendees: Saurabh Pathak | 2 |
| 23.3. 10:00 - 11:30 | JASCO training | Description of holders and software, basic measurement Attendees: Daina Dayana Arenas Buelvas, Pedro Henrique de Oliveira Santiago | 3 |
| 23.3. 10:30 - 11:15 | Nanofab interview - Meeting room C2.11 or C2.07 | This interview is mandatory for enrollment to the Safety excursion - Nanofabrication lab. ID schůzky: 341 031 483 654 Přístupový kód: hz6gW67Y Attendees: Petr Pazourek, Šimon Formánek, David Jonathan Walcher | 5 |
| 24.3. 09:00 - 13:00 | Verios_basic (1/2) | Verios_basic (1/2): training for new users, demonstration part. Meeting point: entrance to StAn CLR labs (bldg. A, 1st floor). Bring your cleanroom stationery set if you have one. Register one slot for the Verios_basic (2/2) hands-on session to complete the training curriculum. Attendees: Jan Klíma, Radim Slovák, Hasan Ali, Tomáš Janoušek | 3 |
| 24.3. 09:00 - 17:30 | Amber | Meeting point at the microscope. Attendees: Adam Očkovič | 4 |
| 24.3. 09:30 - 12:00 | ALD-Beneq-training | Attendees: Jozef Štálnik, Derenik Petrosyan, Heriknaz Asatryan | 3 |
| 24.3. 12:15 - 12:50 | Safety excursion Chem lab | The Moodle course, Advanced Chemical Laboratory is MANDATORY for the Safety Excursion. https://cfmoodle.ceitec.vutbr.cz/course/index.php?categoryid=48. It must be finished 2 work days before the excursion. Attendees: Areej Fatima, Šimon Formánek, Rasul Valiyev, David Jonathan Walcher | 5 |
| 24.3. 13:00 - 13:50 | Safety excursion - Nanofabrication lab | Please enroll in this training only in parallel with the "Nanofab interview." Do not enroll in training ahead of time, but when you are sure you will be using nanofabrication techniques. It is possible to pass this training anytime during your access additionally (it takes place at least once a month). Attendees: Petr Pazourek, Šimon Formánek, David Jonathan Walcher | 5 |
| 24.3. 13:55 - 14:20 | Safety excursion - Nanocharacterization lab | Attendees: Petr Pazourek, Rasul Valiyev, David Jonathan Walcher | 10 |
| 24.3. 14:25 - 14:55 | Safety excursion - StAn lab | Attendees: Petr Pazourek, Šimon Formánek, David Jonathan Walcher | 10 |
| 25.3. 09:00 - 10:30 | Verios_basic (2/2) | Verios_basic (2/2): hands-on session. Bring your real sample(s) with you. Attendees: Tomáš Janoušek | 1 |
| 25.3. 10:30 - 12:00 | Verios_basic (2/2) | Verios_basic (2/2): hands-on session. Bring your real sample(s) with you. Attendees: Radim Slovák | 1 |
| 25.3. 12:30 - 14:00 | Verios_basic (2/2) | Verios_basic (2/2): hands-on session. Bring your real sample(s) with you. Attendees: Jan Klíma | 1 |
| 27.3. 09:00 - 13:00 | KRATOS-XPS | Basic training (session 1/2) - max 2 attendees. In case of interest for the training (when it is full) write to josef.polcak@ceitec.vutbr.cz. Attendees: Grigory Mathew, Sujan Maity | 2 |
| 27.3. 09:30 - 16:30 | MIRA-STAN 1/2 | Meeting point at the microscope. This is a two-step training, register for part 2 in our booking system. Obligatory prerequisites must be completed 2 days before the training. More information about the training is available on our <a href=”https://cfmoodle.ceitec.vutbr.cz/course/view.php?id=76”>Moodle</a>. Attendees: Carolina Oliver Urrutia, Ondrej Kubinec | 4 |
| 27.3. 10:00 - 16.3. 12:00 | Witec-Raman | in front of user office Attendees: Yue Wang, Saurabh Pathak | 4 |