| 0:00 | 1:00 | 2:00 | 3:00 | 4:00 | 5:00 | 6:00 | 7:00 | 8:00 | 9:00 | 10:00 | 11:00 | 12:00 | 13:00 | 14:00 | 15:00 | 16:00 | 17:00 | 18:00 | 19:00 | 20:00 | 21:00 | 22:00 | 23:00 | |
SUSS-WETBENCH
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RIE-FLUORINE
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KRATOS-XPS
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VERIOS
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RIGAKU3
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DIENER
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ML3-BABY
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PARYLENE-SCS
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EVAPORATOR
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MIRA-STAN
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HELIOS
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RAITH
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CRYOGENIC
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TITAN
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NANOINDENTER
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VERSALAB
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ICON-SPM
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VACUUM_OVEN-C1…
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3D-PRUSA-XL
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ALD-BENEQ
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BET-DEGASSER
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LEICACOAT-STAN
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RIGAKU9
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WITEC-RAMAN
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BET-ANAMET
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MPS150
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LASER-DICER
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ZWICK
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CLARUS-680
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UHV-LEEM
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UHV-DEPOSITION
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MIRA-EBL
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DEKTAK
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||||||||||||||||||||||||
FUMEHOOD-HF
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KERR-MICROSCOPE
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ALD-FIJI
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BRILLOUIN
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DISCO-DICING…
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BAMBULAB
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KEITHLEY-4200
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||||||||||||||||||||||||
UHV-SPM
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||||||||||||||||||||||||
UHV-XPS
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NANOSCAN
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||||||||||||||||||||||||
LYRA
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NANOSAM
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UHV-PREPARATION
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DRIE
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R4…
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ULTRAFAST-LASER
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GLOVEBOX…
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WOOLLAM-VIS
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||||||||||||||||||||||||
3D-PRUSA-ORANGE
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||||||||||||||||||||||||
JASCO
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MINIFLEX
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Q-LAB
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SUMMIT
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||||||||||||||||||||||||
NANOCALC
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||||||||||||||||||||||||
SHAKER-B1.18
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||||||||||||||||||||||||
SEE-SYSTEM
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STEMI
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SPINCOATER…
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||||||||||||||||||||||||
LaserMIRA
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SUSS-RCD8
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RTP
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SIMS
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ACCURION_RSE
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RIE-CHLORINE
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microCT
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SNOM-NANONICS
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RSA
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ZETASIZER
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nano-CT
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||||||||||||||||||||||||
nanoCT
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VISCOMETER
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Test Ondra 3
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SW-BEAMER
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||||||||||||||||||||||||
DWL
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||||||||||||||||||||||||
UHV-PLD
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||||||||||||||||||||||||
UHV-CLUSTER
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||||||||||||||||||||||||
UHV…
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||||||||||||||||||||||||
UHV…
|
||||||||||||||||||||||||
XEF2
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||||||||||||||||||||||||
US-CUTTER
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||||||||||||||||||||||||
WIRE-BONDER
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UHV-LEIS
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||||||||||||||||||||||||
JAZ3-CHANNEL
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L450
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FTIR-CHEMLAB
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||||||||||||||||||||||||
FTIR
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CITOVAC
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VACUUM_OVEN-B1…
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||||||||||||||||||||||||
VACUUM_OVEN-B1…
|
||||||||||||||||||||||||
UHV-MBE
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||||||||||||||||||||||||
UHV-FTIR
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SW-LAB
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TEST2
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SW-TRACER
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LEICA-TXP
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TENUPOL
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FISCHIONE-160
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AMBER
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VUVAS
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Test O2
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Test školení
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UHV-MBE1
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TEST-RFID2
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TGA96
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THEORY-SUPPORT
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Heliscan
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MIRKA
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TGA-DISCOVERY
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UHV-MBE2
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SAW-ACCUTOM
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DSC-DISCOVERY
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PECVD
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FUMEHOOD…
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ELECTROWORKSHOP
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FLOWBOX
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4-POINT
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FTIRMAG
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FUMEHOOD…
|
||||||||||||||||||||||||
FUMEHOOD…
|
||||||||||||||||||||||||
FUMEHOOD…
|
||||||||||||||||||||||||
FUMEHOOD…
|
||||||||||||||||||||||||
SPONGEBOB
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||||||||||||||||||||||||
FUMEHOOD…
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Micromex
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micro-CT-L240
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||||||||||||||||||||||||
micro-CT-m300
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DAWN-HELEOS
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TEGRAMIN
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VNA-MPI
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LECTROPOL
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DRYING_OVEN-B1…
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LEICACOAT-NANO
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TUBE-FURNACE
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||||||||||||||||||||||||
APCVD-Diffusion
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||||||||||||||||||||||||
ARES
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||||||||||||||||||||||||
APCVD
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NANOWIZARD
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TORNADO-M4
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MECHANICAL…
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| CEITEC-NANO | ||||||||||||||||||||||||
CLR-ISO8-Lab…
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DIMPLING…
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SW-COMSOL
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LEXT
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MINIEVAP
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CPD
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TIC3X
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CRYOMILL
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SW-CT
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DHR
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PECVD-NANOFAB
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FRASCAN
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TEM-SW
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CITOPRESS
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HENRY-MAGNET
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MAGNETRON
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WOOLLAM-RC2
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SUSS-MA8
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LABOTOM5
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WOOLLAM-MIR
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MONOWAVE
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NIKON-NANO
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PROTOMAT
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NIRQUEST512
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NMR
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ZEISS-NANO
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ULTRACENTRIFUGE
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3D-PRUSA-BLUE
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3D-PRUSA-BLACK
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PARYLENE-DIENER
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LVEM
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LAKESHORE
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CHEMLAB-B1.14
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IR-RAMAN
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||||||||||||||||||||||||
CHEMLAB-B1.16
|
||||||||||||||||||||||||
CHEMLAB-B1.18
|
||||||||||||||||||||||||
IS_NOVOCONTROL
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ZEISS-STAN
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SCIA
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FISCHIONE-TEM…
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KAUFMAN
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K70
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LPCVD-SiN
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R2-PECVD
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LAURELL-NANO
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LIBS-FireFly
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LIBS-Discovery
|
||||||||||||||||||||||||
LIBS-LabSys1
|
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LITESCOPE-LYRA
|
||||||||||||||||||||||||
LITESCOPE-MIRA…
|
||||||||||||||||||||||||
LPCVD-polySi
|
||||||||||||||||||||||||
UV-LASER
|
| Term | Name | Description | Max. attendees |
|---|---|---|---|
| 12.2. 10:00 - 11:15 | Leicacoat StAn training | Meeting point: at the cleanroom filter (building A) Attendees: Veronika Sevriugina, Martino Pistis, Elisa Cuccu | 4 |
| 13.2. 10:00 - 11:00 | Laser Dicer - basics | Basic training - how to cut a Si wafer. Attendees: Iryna Lukiienko | 2 |
| 13.2. 14:00 - 18:00 | Rigaku 3 - hands on | Hands on Attendees: Pedro Henrique de Oliveira Santiago | 1 |
| 17.2. 09:00 - 17:00 | Helios_basic (1/2) | Helios_basic (1/2): training for new users, demonstration part. Meeting point: entrance to StAn CLR labs (bldg. A, 1st floor). Bring your cleanroom stationery set if you have one. Register one slot (only) for the Helios_basic (2/2) hands-on session to complete the training curriculum. Attendees: Jiří Spousta, Jan Pišťák | 2 |
| 18.2. 08:30 - 12:00 | KRATOS-XPS | Basic training (session 1/2) - max 2 attendees. In case of interest for the training (when it is full) write to josef.polcak@ceitec.vutbr.cz. Attendees: Amirmohsen Fanisaberi | 2 |
| 19.2. 09:30 - 12:00 | ICON-SPM basic training | 3 | |
| 23.2. 09:00 - 13:00 | Verios_basic (1/2) | Verios_basic (1/2): training for new users, demonstration part. Meeting point: entrance to StAn CLR labs (bldg. A, 1st floor). Bring your cleanroom stationery set if you have one. Register one slot for the Verios_basic (2/2) hands-on session to complete the training curriculum. Attendees: Jan Klíma, Jakub Krčma, Kryštof Jasenský | 3 |
| 23.2. 10:30 - 11:15 | Nanofab interview - Meeting room C2.11 or C2.07 | This interview is mandatory for enrollment to the Safety excursion - Nanofabrication lab. ID schůzky: 347 469 442 329 50 Přístupový kód: Nh7js27A | 5 |
| 24.2. 10:00 - 11:30 | Ultracentrifuge training | The introduction and manipulation with the ultracentrifuge and rotors Attendees: Monika Kreuzerová | 2 |
| 24.2. 12:15 - 12:50 | Safety excursion Chem lab | The Moodle course, Advanced Chemical Laboratory is MANDATORY for the Safety Excursion. https://cfmoodle.ceitec.vutbr.cz/course/index.php?categoryid=48. It must be finished 2 work days before the excursion. Attendees: Ekaterina Pribytova | 5 |
| 24.2. 13:00 - 13:50 | Safety excursion - Nanofabrication lab | Please enroll in this training only in parallel with the "Nanofab interview." Do not enroll in training ahead of time, but when you are sure you will be using nanofabrication techniques. It is possible to pass this training anytime during your access additionally (it takes place at least once a month). | 5 |
| 24.2. 13:55 - 14:20 | Safety excursion - Nanocharacterization lab | 10 | |
| 24.2. 14:25 - 14:55 | Safety excursion - StAn lab | Attendees: Eduard Jelínek | 10 |
| 27.2. 09:00 - 10:30 | Verios_basic (2/2) | Verios_basic (2/2): hands-on session. Bring your real sample(s) with you. Attendees: Kryštof Jasenský | 1 |
| 27.2. 10:30 - 12:00 | Verios_basic (2/2) | Verios_basic (2/2): hands-on session. Bring your real sample(s) with you. Attendees: Jakub Krčma | 1 |
| 27.2. 12:30 - 14:00 | Verios_basic (2/2) | Verios_basic (2/2): hands-on session. Bring your real sample(s) with you. Attendees: Jan Klíma | 1 |