| 0:00 | 1:00 | 2:00 | 3:00 | 4:00 | 5:00 | 6:00 | 7:00 | 8:00 | 9:00 | 10:00 | 11:00 | 12:00 | 13:00 | 14:00 | 15:00 | 16:00 | 17:00 | 18:00 | 19:00 | 20:00 | 21:00 | 22:00 | 23:00 | |
ICON-SPM
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VERIOS
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RIE-FLUORINE
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TEGRAMIN
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CRYOGENIC
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MIRA-STAN
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TITAN
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VERSALAB
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LYRA
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CITOPRESS
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SUSS-WETBENCH
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FTIR-CHEMLAB
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WOOLLAM-VIS
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WITEC-RAMAN
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micro-CT-L240
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KRATOS-XPS
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LASER-DICER
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ZWICK
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WOOLLAM-RC2
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ELECTROWORKSHOP
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ZEISS-STAN
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UHV-PREPARATION
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ML3-BABY
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LIBS-FireFly
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HELIOS
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UHV-XPS
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FUMEHOOD…
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FUMEHOOD-HF
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MIRA-EBL
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UHV-LEEM
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FUME_HOOD-B1.14
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EVAPORATOR
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DWL
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NANOSCAN
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RIGAKU3
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ZETASIZER
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RIGAKU9
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ALD-FIJI
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LEICACOAT-NANO
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BAMBULAB
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WIRE-BONDER
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KEITHLEY-4200
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MECHANICAL…
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RAITH
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CHEMLAB-B1.14
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TUBE-FURNACE
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LITESCOPE-MIRA…
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LEICACOAT-STAN
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FTIR
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VACUUM_OVEN-C1…
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JASCO
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AMBER
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MAGNETRON
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MPS150
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SHAKER…
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NANOCALC
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STEMI
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BET-ANAMET
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SUMMIT
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RSA
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LaserMIRA
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SEE-SYSTEM
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SIMS
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PARYLENE-SCS
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SNOM-NANONICS
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nano-CT
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||||||||||||||||||||||||
nanoCT
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MINIFLEX
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RIE-CHLORINE
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DIENER
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SUSS-RCD8
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ACCURION_RSE
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RTP
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Q-LAB
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SW-BEAMER
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THEORY-SUPPORT
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SW-LAB
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JAZ3-CHANNEL
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UHV-SPM
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UHV-CLUSTER
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UHV…
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UHV…
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ULTRAFAST-LASER
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US-CUTTER
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CITOVAC
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UHV-MBE
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VACUUM_OVEN-B1…
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VUVAS
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VISCOMETER
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L450
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XEF2
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microCT
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UHV-PLD
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UHV-LEIS
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SW-TRACER
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Test školení
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LEICA-TXP
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TENUPOL
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FISCHIONE-160
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Test Ondra 3
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Test O2
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TEST2
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TEST-RFID2
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UHV-FTIR
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TGA96
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SAW-ACCUTOM
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Heliscan
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TGA-DISCOVERY
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UHV-MBE2
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UHV-MBE1
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UHV-DEPOSITION
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SPINCOATER…
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DSC-DISCOVERY
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MIRKA
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4-POINT
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DHR
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DIMPLING…
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DRYING_OVEN-B1…
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SPONGEBOB
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LECTROPOL
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R4…
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FLOWBOX
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FTIRMAG
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SW-CT
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FUMEHOOD…
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||||||||||||||||||||||||
FUMEHOOD…
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FUME_HOOD-B1.18
|
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CLARUS-680
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||||||||||||||||||||||||
Micromex
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micro-CT-m300
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DAWN-HELEOS
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DRIE
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CRYOMILL
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PECVD-NANOFAB
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||||||||||||||||||||||||
VACUUM_OVEN…
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ALD-BENEQ
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||||||||||||||||||||||||
APCVD-Diffusion
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||||||||||||||||||||||||
ARES
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||||||||||||||||||||||||
APCVD
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NANOWIZARD
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DISCO-DICING…
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BET-DEGASSER
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BRILLOUIN
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TIC3X
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TORNADO-M4
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| CEITEC-NANO | ||||||||||||||||||||||||
CLR-ISO8-Lab…
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SW-COMSOL
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LEXT
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MINIEVAP
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CPD
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VNA-MPI
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FRASCAN
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PECVD
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NIRQUEST512
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DEKTAK
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LABOTOM5
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WOOLLAM-MIR
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GLOVEBOX…
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MONOWAVE
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NANOSAM
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NIKON-NANO
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NMR
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HENRY-MAGNET
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ZEISS-NANO
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ULTRACENTRIFUGE
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3D-PRUSA-BLUE
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||||||||||||||||||||||||
3D-PRUSA-BLACK
|
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3D-PRUSA-ORANGE
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PARYLENE-DIENER
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TEM-SW
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SUSS-MA8
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KERR-MICROSCOPE
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NANOINDENTER
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K70
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CHEMLAB-B1.16
|
||||||||||||||||||||||||
CHEMLAB-B1.18
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IS_NOVOCONTROL
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SCIA
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FISCHIONE-TEM…
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KAUFMAN
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IR-RAMAN
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R2-PECVD
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LVEM
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LAURELL-NANO
|
||||||||||||||||||||||||
LIBS-Discovery
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LIBS-LabSys1
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LITESCOPE-LYRA
|
||||||||||||||||||||||||
LPCVD-polySi
|
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LPCVD-SiN
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LAKESHORE
|
||||||||||||||||||||||||
PROTOMAT
|
||||||||||||||||||||||||
UV-LASER
|
| Term | Name | Description | Max. attendees |
|---|---|---|---|
| 30.1. 13:30 - 16:30 | Rigaku - Basic | Bring your typical sample A1.15 You will not be admitted to the training without a completed "Request for training" in the booking system and an INTERVIEW. Follow up on the instructions: [How to apply for training](https://cfmoodle.ceitec.vutbr.cz/course/view.php?id=36) Attendees: Viktor Danchuk | 2 |
| 2.2. 08:30 - 11:00 | Woollam RC2 | First part of training Attendees: Nima Bolouki | 1 |
| 2.2. 15:00 - 17:00 | SUSS Wetbench training | Training of the new user Attendees: Laiba Bajwa | 2 |
| 3.2. 10:00 - 13:00 | Tornado-M4 | 3 | |
| 3.2. 13:30 - 16:30 | Evaporator EN | Standard training in English Attendees: Radim Slovák, Laiba Bajwa | 2 |
| 4.2. 13:00 - 15:00 | Laser Dicer training | Attendees: Iryna Lukiienko, Jozef Štálnik, Radim Slovák | 3 |
| 5.2. 09:30 - 13:30 | MIRA-STAN 2/2 | Meeting point at the microscope. This is a two-step training, register for part 1 in our booking system. More information about the training is available on our <a href=”https://cfmoodle.ceitec.vutbr.cz/course/view.php?id=76”>Moodle</a>. Attendees: Grigory Mathew, Karan Singh Surana, Nicolò Rossetti | 3 |
| 5.2. 13:00 - 15:30 | MIRA-STAN for returning and Lyra users | Renewal training for returning users. Attendees: Ekaterina Pribytova, Eduard Jelínek | 2 |
| 6.2. 08:30 - 11:00 | LYRA advanced training - EDS analysis | The training focused on the elemental analysis by EDS. We will meet in the LYRA lab. Attendees: Kryštof Jasenský, Marek Eliáš | 3 |
| 9.2. 09:30 - 11:00 | RIE-flourine- training | Attendees: Ekaterina Pribytova, Franz Vilsmeier, Fabian Majcen, Kryštof Matějka | 3 |
| 12.2. 09:30 - 16:00 | MIRA-STAN 1/2 | Meeting point at the microscope. This is a two-step training, register for part 2 in our booking system. Obligatory prerequisites must be completed 2 days before the training. More information about the training is available on our <a href=”https://cfmoodle.ceitec.vutbr.cz/course/view.php?id=76”>Moodle</a>. Attendees: Eduard Jelínek, Navaj Shaikh | 4 |
| 17.2. 09:00 - 17:00 | Helios_basic (1/2) | Helios_basic (1/2): training for new users, demonstration part. Meeting point: entrance to StAn CLR labs (bldg. A, 1st floor). Bring your cleanroom stationery set if you have one. Register one slot (only) for the Helios_basic (2/2) hands-on session to complete the training curriculum. Attendees: Jiří Spousta | 2 |
| 19.2. 09:30 - 12:00 | ICON-SPM basic training | 3 | |
| 23.2. 10:30 - 11:15 | Nanofab interview - Meeting room C2.11 or C2.07 | This interview is mandatory for enrollment to the Safety excursion - Nanofabrication lab. ID schůzky: 347 469 442 329 50 Přístupový kód: Nh7js27A | 5 |
| 24.2. 12:15 - 12:50 | Safety excursion Chem lab | The Moodle course, Advanced Chemical Laboratory is MANDATORY for the Safety Excursion. https://cfmoodle.ceitec.vutbr.cz/course/index.php?categoryid=48. It must be finished 2 work days before the excursion. | 5 |
| 24.2. 13:00 - 13:50 | Safety excursion - Nanofabrication lab | Please enroll in this training only in parallel with the "Nanofab interview." Do not enroll in training ahead of time, but when you are sure you will be using nanofabrication techniques. It is possible to pass this training anytime during your access additionally (it takes place at least once a month). | 5 |
| 24.2. 13:55 - 14:20 | Safety excursion - Nanocharacterization lab | 10 | |
| 24.2. 14:25 - 14:55 | Safety excursion - StAn lab | 10 |