| 0:00 | 1:00 | 2:00 | 3:00 | 4:00 | 5:00 | 6:00 | 7:00 | 8:00 | 9:00 | 10:00 | 11:00 | 12:00 | 13:00 | 14:00 | 15:00 | 16:00 | 17:00 | 18:00 | 19:00 | 20:00 | 21:00 | 22:00 | 23:00 | |
SUSS-WETBENCH
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RIE-FLUORINE
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VERIOS
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EVAPORATOR
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RIGAKU3
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RAITH
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ML3-BABY
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DWL
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HELIOS
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MAGNETRON
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VERSALAB
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MIRA-EBL
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WITEC-RAMAN
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LASER-DICER
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KRATOS-XPS
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VNA-MPI
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MIRA-STAN
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SUSS-MA8
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SCIA
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LIBS-FireFly
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LYRA
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SNOM-NANONICS
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FUMEHOOD-HF
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TITAN
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CRYOGENIC
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UHV-MBE
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LITESCOPE-LYRA
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UHV-LEIS
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UHV-LEEM
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FUME_HOOD-B1.18
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LITESCOPE-MIRA…
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UHV-DEPOSITION
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KERR-MICROSCOPE
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RSA
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ULTRACENTRIFUGE
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BRILLOUIN
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L450
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RIGAKU9
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UHV-PREPARATION
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ALD-FIJI
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WOOLLAM-VIS
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SUSS-RCD8
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LEICACOAT-STAN
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DIENER
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LEXT
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RIE-CHLORINE
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ZWICK
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SW-CT
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DRIE
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DHR
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SPINCOATER…
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NANOCALC
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STEMI
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Q-LAB
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SHAKER…
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SW-BEAMER
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ACCURION_RSE
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RTP
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SUMMIT
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LaserMIRA
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SEE-SYSTEM
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SIMS
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PARYLENE-SCS
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MINIFLEX
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ICON-SPM
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nanoCT
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nano-CT
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BET-ANAMET
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MPS150
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SW-LAB
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FTIR-CHEMLAB
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UHV…
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UHV…
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ULTRAFAST-LASER
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US-CUTTER
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JASCO
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JAZ3-CHANNEL
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VACUUM_OVEN-C1…
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FTIR
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UHV-SPM
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CITOVAC
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VACUUM_OVEN-B1…
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VUVAS
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VISCOMETER
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WIRE-BONDER
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XEF2
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microCT
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ZETASIZER
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UHV-CLUSTER
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UHV-PLD
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SW-TRACER
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Test školení
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LEICA-TXP
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TENUPOL
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FISCHIONE-160
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AMBER
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Test Ondra 3
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Test O2
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TEST2
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TEST-RFID2
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UHV-XPS
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TGA96
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MIRKA
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THEORY-SUPPORT
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Heliscan
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TGA-DISCOVERY
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UHV-MBE2
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UHV-MBE1
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UHV-FTIR
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SAW-ACCUTOM
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DSC-DISCOVERY
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PECVD
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FUMEHOOD…
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LECTROPOL
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ELECTROWORKSHOP
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R4…
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FLOWBOX
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4-POINT
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FTIRMAG
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FUMEHOOD…
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FUMEHOOD…
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DRYING_OVEN-B1…
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FUME_HOOD-B1.14
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CLARUS-680
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Micromex
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micro-CT-L240
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micro-CT-m300
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DAWN-HELEOS
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GLOVEBOX…
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SPONGEBOB
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DIMPLING…
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PECVD-NANOFAB
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VACUUM_OVEN…
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ALD-BENEQ
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ARES
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APCVD
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NANOWIZARD
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DISCO-DICING…
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BAMBULAB
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BET-DEGASSER
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TORNADO-M4
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CRYOMILL
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MECHANICAL…
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| CEITEC-NANO | ||||||||||||||||||||||||
TUBE-FURNACE
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CLR-ISO8-Lab…
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SW-COMSOL
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MINIEVAP
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CPD
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TIC3X
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TEGRAMIN
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LEICACOAT-NANO
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PARYLENE-DIENER
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NANOSCAN
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WOOLLAM-RC2
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DEKTAK
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LABOTOM5
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WOOLLAM-MIR
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GLOVEBOX…
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MONOWAVE
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CITOPRESS
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NANOSAM
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LVEM
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NIKON-NANO
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NIRQUEST512
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NMR
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ZEISS-NANO
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3D-PRUSA-BLUE
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3D-PRUSA-BLACK
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3D-PRUSA-ORANGE
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HENRY-MAGNET
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PROTOMAT
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FRASCAN
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KAUFMAN
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NANOINDENTER
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CHEMLAB-B1.14
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CHEMLAB-B1.16
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CHEMLAB-B1.18
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IS_NOVOCONTROL
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ZEISS-STAN
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FISCHIONE-TEM…
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IR-RAMAN
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LAKESHORE
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K70
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KEITHLEY-4200
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R2-PECVD
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LAURELL-NANO
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LIBS-Discovery
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LIBS-LabSys1
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LPCVD-polySi
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LPCVD-SiN
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||||||||||||||||||||||||
UV-LASER
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| Term | Name | Description | Max. attendees |
|---|---|---|---|
| 15.1. 09:30 - 12:00 | RIE-chlorine- training | Attendees: Cyril Delforge, Rhys Geoffrey Povey | 3 |
| 15.1. 10:30 - 11:45 | LEXT training | Attendees: Nada Souawda, Aniket Mukherjee | 3 |
| 15.1. 13:15 - 16:15 | Evaprator CZ | Standard training in the Czech language Attendees: Kryštof Jasenský, Jakub Piastek | 2 |
| 15.1. 16:00 - 16:30 | Spincoater Laurell-ChemLab | Short introduction of the Spincoater in the ChemLab Attendees: Saurabh Pathak | 3 |
| 16.1. 09:00 - 13:00 | Rigaku 3-Basic | Bring your typical sample A1.15 Attendees: Saurabh Pathak, Pedro Henrique de Oliveira Santiago | 2 |
| 19.1. 10:30 - 11:15 | Nanofab interview - Meeting room C2.11 or C2.07 | This interview is mandatory for enrollment to the Safety excursion - Nanofabrication lab. ID schůzky: 388 937 741 186 64 Přístupový kód: eS6dM7MD Attendees: Laiba Bajwa | 5 |
| 20.1. 09:00 - 13:00 | Verios_basic (1/2) | Verios_basic (1/2): training for new users, demonstration part. Meeting point: entrance to StAn CLR labs (bldg. A, 1st floor). Bring your cleanroom stationery set if you have one. Register one slot for the Verios_basic (2/2) hands-on session to complete the training curriculum. Attendees: Jiří Spousta, Lukáš Koňařík, Mohamed Bensalem | 3 |
| 20.1. 12:15 - 12:50 | Safety excursion Chem lab | The Moodle course, Advanced Chemical Laboratory is MANDATORY for the Safety Excursion. https://cfmoodle.ceitec.vutbr.cz/course/view.php?id=151. It must be finished 2 work days before the excursion. Attendees: Ondrej Kubinec | 5 |
| 20.1. 13:00 - 17:00 | KRATOS-XPS | Basic training (session 1/2) - max 2 attendees. In case of interest for the training (when it is full) write to josef.polcak@ceitec.vutbr.cz. Attendees: Nicole Rusnaková, Kryštof Matějka, Areej Fatima | 2 |
| 20.1. 13:00 - 13:50 | Safety excursion - Nanofabrication lab | Please enroll in this training only in parallel with the "Nanofab interview." Do not enroll in training ahead of time, but when you are sure you will be using nanofabrication techniques. It is possible to pass this training anytime during your access additionally (it takes place at least once a month). Attendees: Laiba Bajwa | 5 |
| 20.1. 13:55 - 14:20 | Safety excursion - Nanocharacterization lab | Attendees: Areej Fatima, Laiba Bajwa | 10 |
| 20.1. 14:25 - 14:55 | Safety excursion - StAn lab | Attendees: Laiba Bajwa | 10 |
| 21.1. 09:00 - 10:30 | Verios_basic (2/2) | Verios_basic (2/2): hands-on session. Bring your real sample(s) with you. Attendees: Jiří Spousta | 1 |
| 21.1. 10:30 - 12:00 | Verios_basic (2/2) | Verios_basic (2/2): hands-on session. Bring your real sample(s) with you. Attendees: Mohamed Bensalem | 1 |
| 21.1. 12:30 - 14:00 | Verios_basic (2/2) | Verios_basic (2/2): hands-on session. Bring your real sample(s) with you. Attendees: Lukáš Koňařík | 1 |
| 23.1. 08:30 - 15:00 | LYRA basic training - SEM part | The training is focused on the SEM part of the LYRA system. We will meet in the coffee room next to the user office in the C building. Attendees: Cyril Delforge, Elisa Cuccu, Jakub Piastek | 4 |
| 23.1. 09:30 - 16:00 | MIRA-STAN 1/2 | Meeting point at the microscope. This is a two-step training, register for part 2 in our booking system. Obligatory prerequisites must be completed 2 days before the training. More information about the training is available on our <a href=”https://cfmoodle.ceitec.vutbr.cz/course/view.php?id=76”>Moodle</a>. Attendees: Navaj Shaikh, Grigory Mathew, Karan Singh Surana, Nicolò Rossetti | 4 |
| 27.1. 09:30 - 12:00 | ALD-Beneq-training | Attendees: Thanh Lam BUI, Kryštof Matějka, Jan Kunc | 3 |
| 4.2. 09:30 - 13:30 | MIRA-STAN 2/2 | Meeting point at the microscope. This is a two-step training, register for part 1 in our booking system. More information about the training is available on our <a href=”https://cfmoodle.ceitec.vutbr.cz/course/view.php?id=76”>Moodle</a>. | 2 |
| 5.2. 09:30 - 13:30 | MIRA-STAN 2/2 | Meeting point at the microscope. This is a two-step training, register for part 1 in our booking system. More information about the training is available on our <a href=”https://cfmoodle.ceitec.vutbr.cz/course/view.php?id=76”>Moodle</a>. | 2 |