| 0:00 | 1:00 | 2:00 | 3:00 | 4:00 | 5:00 | 6:00 | 7:00 | 8:00 | 9:00 | 10:00 | 11:00 | 12:00 | 13:00 | 14:00 | 15:00 | 16:00 | 17:00 | 18:00 | 19:00 | 20:00 | 21:00 | 22:00 | 23:00 | |
SUSS-WETBENCH
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ML3-BABY
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EVAPORATOR
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VERIOS
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RAITH
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WITEC-RAMAN
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VERSALAB
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UHV-XPS
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NMR
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ICON-SPM
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LYRA
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TEGRAMIN
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LEICACOAT-STAN
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UHV-LEEM
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UHV-PREPARATION
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MIRA-EBL
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DEKTAK
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LEXT
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TITAN
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AMBER
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KRATOS-XPS
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CRYOGENIC
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ALD-FIJI
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DIENER
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CHEMLAB-B1.14
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FUMEHOOD-HF
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MIRA-STAN
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UHV-MBE
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GLOVEBOX…
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R2-PECVD
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FUME_HOOD-B1.14
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CHEMLAB-B1.16
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SCIA
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FUME_HOOD-B1.18
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MAGNETRON
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UHV-FTIR
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UHV-DEPOSITION
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LVEM
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KAUFMAN
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DSC-DISCOVERY
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HELIOS
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UHV-PLD
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||||||||||||||||||||||||
WOOLLAM-VIS
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||||||||||||||||||||||||
ZWICK
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RIGAKU9
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BET-DEGASSER
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||||||||||||||||||||||||
3D-PRUSA-ORANGE
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||||||||||||||||||||||||
TORNADO-M4
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||||||||||||||||||||||||
MECHANICAL…
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||||||||||||||||||||||||
TUBE-FURNACE
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||||||||||||||||||||||||
UHV-SPM
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VACUUM_OVEN-B1…
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||||||||||||||||||||||||
RIE-CHLORINE
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||||||||||||||||||||||||
UHV…
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LIBS-LabSys1
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||||||||||||||||||||||||
JASCO
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||||||||||||||||||||||||
NANOSAM
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||||||||||||||||||||||||
NANOSCAN
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UHV…
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ELECTROWORKSHOP
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nanoCT
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ACCURION_RSE
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NANOCALC
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RIGAKU3
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||||||||||||||||||||||||
SHAKER…
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SUSS-RCD8
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||||||||||||||||||||||||
RSA
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SUMMIT
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||||||||||||||||||||||||
SNOM-NANONICS
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||||||||||||||||||||||||
LaserMIRA
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SEE-SYSTEM
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RIE-FLUORINE
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SIMS
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PARYLENE-SCS
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||||||||||||||||||||||||
nano-CT
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||||||||||||||||||||||||
MINIFLEX
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STEMI
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THEORY-SUPPORT
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BET-ANAMET
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CITOVAC
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US-CUTTER
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DWL
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JAZ3-CHANNEL
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VACUUM_OVEN-C1…
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FTIR-CHEMLAB
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FTIR
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VUVAS
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||||||||||||||||||||||||
UHV-CLUSTER
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VISCOMETER
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L450
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WIRE-BONDER
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||||||||||||||||||||||||
XEF2
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||||||||||||||||||||||||
microCT
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ZETASIZER
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ULTRAFAST-LASER
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UHV-LEIS
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SW-BEAMER
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Test O2
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SW-LAB
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||||||||||||||||||||||||
SW-TRACER
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LEICA-TXP
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||||||||||||||||||||||||
TENUPOL
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||||||||||||||||||||||||
FISCHIONE-160
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Test Ondra 3
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TEST2
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UHV-MBE1
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||||||||||||||||||||||||
Test školení
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||||||||||||||||||||||||
TEST-RFID2
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TGA96
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||||||||||||||||||||||||
Q-LAB
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Heliscan
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TGA-DISCOVERY
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UHV-MBE2
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||||||||||||||||||||||||
RTP
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MPS150
|
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SPINCOATER…
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||||||||||||||||||||||||
FTIRMAG
|
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DRYING_OVEN-B1…
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||||||||||||||||||||||||
SPONGEBOB
|
||||||||||||||||||||||||
LECTROPOL
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R4…
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||||||||||||||||||||||||
FLOWBOX
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4-POINT
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||||||||||||||||||||||||
FUMEHOOD…
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||||||||||||||||||||||||
DHR
|
||||||||||||||||||||||||
FUMEHOOD…
|
||||||||||||||||||||||||
FUMEHOOD…
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CLARUS-680
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||||||||||||||||||||||||
Micromex
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micro-CT-L240
|
||||||||||||||||||||||||
micro-CT-m300
|
||||||||||||||||||||||||
DAWN-HELEOS
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||||||||||||||||||||||||
DIMPLING…
|
||||||||||||||||||||||||
DRIE
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PECVD-NANOFAB
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||||||||||||||||||||||||
VACUUM_OVEN…
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||||||||||||||||||||||||
ALD-BENEQ
|
||||||||||||||||||||||||
APCVD-Diffusion
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ARES
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||||||||||||||||||||||||
APCVD
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NANOWIZARD
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DISCO-DICING…
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BAMBULAB
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BRILLOUIN
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SW-CT
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| CEITEC-NANO | ||||||||||||||||||||||||
CLR-ISO8-Lab…
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SW-COMSOL
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MINIEVAP
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CPD
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TIC3X
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CRYOMILL
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VNA-MPI
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LEICACOAT-NANO
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SAW-ACCUTOM
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NIRQUEST512
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||||||||||||||||||||||||
WOOLLAM-RC2
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SUSS-MA8
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LABOTOM5
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WOOLLAM-MIR
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MONOWAVE
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CITOPRESS
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NIKON-NANO
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ZEISS-NANO
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KERR-MICROSCOPE
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ULTRACENTRIFUGE
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3D-PRUSA-BLUE
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3D-PRUSA-BLACK
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PARYLENE-DIENER
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TEM-SW
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PECVD
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MIRKA
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HENRY-MAGNET
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PROTOMAT
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FRASCAN
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KEITHLEY-4200
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NANOINDENTER
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CHEMLAB-B1.18
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IS_NOVOCONTROL
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ZEISS-STAN
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FISCHIONE-TEM…
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IR-RAMAN
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K70
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LASER-DICER
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LAKESHORE
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LAURELL-NANO
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LIBS-FireFly
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LIBS-Discovery
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LITESCOPE-LYRA
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LITESCOPE-MIRA…
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LPCVD-polySi
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LPCVD-SiN
|
||||||||||||||||||||||||
UV-LASER
|
| Term | Name | Description | Max. attendees |
|---|---|---|---|
| 2.2. 15:00 - 17:00 | SUSS Wetbench training | Training of the new user Attendees: Laiba Bajwa | 2 |
| 3.2. 08:30 - 16:00 | Nanoindenter training | The meeting point is directly in the SPM laboratory. Attendees: Hongbo Fu, Tomáš Havelka | 4 |
| 3.2. 09:00 - 2.2. 10:30 | Dektak-training | Attendees: Cyril Delforge, Laiba Bajwa | --- |
| 3.2. 10:00 - 13:00 | Tornado-M4 | Attendees: Samer Daradkeh, Konstantin Iakoubovskii | 3 |
| 3.2. 13:30 - 16:30 | Evaporator EN | Standard training in English Attendees: Radim Slovák, Laiba Bajwa | 2 |
| 4.2. 13:00 - 15:00 | Laser Dicer training | Attendees: Iryna Lukiienko, Jozef Štálnik, Radim Slovák | 3 |
| 5.2. 08:30 - 11:00 | Woollam RC2 | First part of training Attendees: Nima Bolouki | 1 |
| 5.2. 09:30 - 13:30 | MIRA-STAN 2/2 | Meeting point at the microscope. This is a two-step training, register for part 1 in our booking system. More information about the training is available on our <a href=”https://cfmoodle.ceitec.vutbr.cz/course/view.php?id=76”>Moodle</a>. Attendees: Grigory Mathew, Karan Singh Surana, Nicolò Rossetti | 3 |
| 5.2. 13:00 - 15:30 | MIRA-STAN for returning and Lyra users | Renewal training for returning users. Attendees: Ekaterina Pribytova, Eduard Jelínek, Kryštof Jasenský | 3 |
| 6.2. 08:30 - 11:00 | LYRA advanced training - EDS analysis | The training focused on the elemental analysis by EDS. We will meet in the LYRA lab. Attendees: Linda Supalová, Kryštof Jasenský, Marek Eliáš | 3 |
| 9.2. 09:30 - 12:30 | DLS-ZetaSizer Part 1+2 | This training will provide hands-on practice with basic methods for measuring particle size using the DLS technique. The session will cover: -An overview of DLS principles, including light scattering and Brownian motion. -Step-by-step guidance on preparing samples for size and zeta potential measurements. -The use of different measurement cells (e.g., disposable and reusable cuvettes) and their applications for specific types of samples. Practical demonstration of data acquisition, optimization of measurement parameters, and analysis using the Malvern software interface. By the end of the training, participants will gain both theoretical insights and practical expertise in using the Malvern device for comprehensive particle characterization. Attendees: Michela Sanna, Ammar AL Soud, Monika Kreuzerová | 3 |
| 9.2. 09:30 - 11:00 | RIE-flourine- training | Attendees: Ekaterina Pribytova, Franz Vilsmeier, Fabian Majcen, Kryštof Matějka | 3 |
| 10.2. 09:00 - 13:00 | Verios_basic (1/2) | Verios_basic (1/2): training for new users, demonstration part. Meeting point: entrance to StAn CLR labs (bldg. A, 1st floor). Bring your cleanroom stationery set if you have one. Register one slot for the Verios_basic (2/2) hands-on session to complete the training curriculum. Attendees: Kryštof Jasenský | 3 |
| 11.2. 09:00 - 10:30 | Verios_basic (2/2) | Verios_basic (2/2): hands-on session. Bring your real sample(s) with you. | 1 |
| 11.2. 10:30 - 12:00 | Verios_basic (2/2) | Verios_basic (2/2): hands-on session. Bring your real sample(s) with you. | 1 |
| 11.2. 12:30 - 14:00 | Verios_basic (2/2) | Verios_basic (2/2): hands-on session. Bring your real sample(s) with you. Attendees: Kryštof Jasenský | 1 |
| 12.2. 09:30 - 16:00 | MIRA-STAN 1/2 | Meeting point at the microscope. This is a two-step training, register for part 2 in our booking system. Obligatory prerequisites must be completed 2 days before the training. More information about the training is available on our <a href=”https://cfmoodle.ceitec.vutbr.cz/course/view.php?id=76”>Moodle</a>. Attendees: Eduard Jelínek, Navaj Shaikh | 4 |
| 17.2. 09:00 - 17:00 | Helios_basic (1/2) | Helios_basic (1/2): training for new users, demonstration part. Meeting point: entrance to StAn CLR labs (bldg. A, 1st floor). Bring your cleanroom stationery set if you have one. Register one slot (only) for the Helios_basic (2/2) hands-on session to complete the training curriculum. Attendees: Jiří Spousta | 2 |
| 19.2. 09:30 - 12:00 | ICON-SPM basic training | 3 | |
| 23.2. 10:30 - 11:15 | Nanofab interview - Meeting room C2.11 or C2.07 | This interview is mandatory for enrollment to the Safety excursion - Nanofabrication lab. ID schůzky: 347 469 442 329 50 Přístupový kód: Nh7js27A | 5 |
| 24.2. 12:15 - 12:50 | Safety excursion Chem lab | The Moodle course, Advanced Chemical Laboratory is MANDATORY for the Safety Excursion. https://cfmoodle.ceitec.vutbr.cz/course/index.php?categoryid=48. It must be finished 2 work days before the excursion. Attendees: Ekaterina Pribytova | 5 |
| 24.2. 13:00 - 13:50 | Safety excursion - Nanofabrication lab | Please enroll in this training only in parallel with the "Nanofab interview." Do not enroll in training ahead of time, but when you are sure you will be using nanofabrication techniques. It is possible to pass this training anytime during your access additionally (it takes place at least once a month). | 5 |
| 24.2. 13:55 - 14:20 | Safety excursion - Nanocharacterization lab | 10 | |
| 24.2. 14:25 - 14:55 | Safety excursion - StAn lab | 10 |