| 0:00 | 1:00 | 2:00 | 3:00 | 4:00 | 5:00 | 6:00 | 7:00 | 8:00 | 9:00 | 10:00 | 11:00 | 12:00 | 13:00 | 14:00 | 15:00 | 16:00 | 17:00 | 18:00 | 19:00 | 20:00 | 21:00 | 22:00 | 23:00 | |
SUSS-WETBENCH
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RIE-FLUORINE
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KRATOS-XPS
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EVAPORATOR
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ML3-BABY
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MIRA-STAN
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RAITH
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RIGAKU9
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DIENER
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WITEC-RAMAN
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NANOSAM
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LYRA
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MIRA-EBL
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ICON-SPM
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PARYLENE-SCS
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VERIOS
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CRYOGENIC
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NANOCALC
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ALD-BENEQ
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SCIA
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LEICACOAT-STAN
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TEGRAMIN
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TITAN
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NANOINDENTER
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UHV-LEEM
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LVEM
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FUMEHOOD…
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HELIOS
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CHEMLAB-B1.14
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BET-ANAMET
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||||||||||||||||||||||||
AMBER
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UHV-SPM
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UHV-DEPOSITION
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FUMEHOOD…
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UHV-PREPARATION
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||||||||||||||||||||||||
TORNADO-M4
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||||||||||||||||||||||||
VERSALAB
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WOOLLAM-VIS
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BRILLOUIN
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BET-DEGASSER
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ALD-FIJI
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NANOSCAN
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GLOVEBOX…
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||||||||||||||||||||||||
FTIR-CHEMLAB
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VACUUM_OVEN-C1…
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||||||||||||||||||||||||
DRYING_OVEN-B1…
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ULTRAFAST-LASER
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SHAKER…
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STEMI
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||||||||||||||||||||||||
Q-LAB
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SW-BEAMER
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RTP
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SPINCOATER…
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SAW-ACCUTOM
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nanoCT
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SEE-SYSTEM
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SUMMIT
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ACCURION_RSE
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LaserMIRA
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||||||||||||||||||||||||
nano-CT
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||||||||||||||||||||||||
SIMS
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||||||||||||||||||||||||
RIGAKU3
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SUSS-RCD8
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RIE-CHLORINE
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SNOM-NANONICS
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MINIFLEX
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RSA
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||||||||||||||||||||||||
SW-TRACER
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||||||||||||||||||||||||
SW-LAB
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||||||||||||||||||||||||
MPS150
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||||||||||||||||||||||||
LEICA-TXP
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||||||||||||||||||||||||
VACUUM_OVEN-B1…
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||||||||||||||||||||||||
US-CUTTER
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||||||||||||||||||||||||
DWL
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||||||||||||||||||||||||
JASCO
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||||||||||||||||||||||||
JAZ3-CHANNEL
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||||||||||||||||||||||||
FTIR
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||||||||||||||||||||||||
CITOVAC
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||||||||||||||||||||||||
VACUUM_OVEN-B1…
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VUVAS
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||||||||||||||||||||||||
UHV…
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VISCOMETER
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L450
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WIRE-BONDER
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XEF2
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microCT
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ZWICK
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ZETASIZER
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UHV…
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UHV-CLUSTER
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TENUPOL
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THEORY-SUPPORT
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FISCHIONE-160
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Test Ondra 3
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Test O2
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TEST2
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Test školení
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TEST-RFID2
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TGA96
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PECVD
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UHV-PLD
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Heliscan
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TGA-DISCOVERY
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UHV-MBE2
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UHV-MBE1
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UHV-FTIR
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UHV-LEIS
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UHV-MBE
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UHV-XPS
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MIRKA
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MONOWAVE
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TEM-SW
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FUMEHOOD-HF
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LECTROPOL
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ELECTROWORKSHOP
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R4…
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FLOWBOX
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4-POINT
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FTIRMAG
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FUMEHOOD…
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FUMEHOOD…
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DIMPLING…
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FUMEHOOD…
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||||||||||||||||||||||||
FUMEHOOD…
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CLARUS-680
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||||||||||||||||||||||||
Micromex
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micro-CT-L240
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||||||||||||||||||||||||
micro-CT-m300
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DAWN-HELEOS
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VNA-MPI
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SPONGEBOB
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||||||||||||||||||||||||
DHR
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LEICACOAT-NANO
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| CEITEC-NANO | ||||||||||||||||||||||||
APCVD-Diffusion
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ARES
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APCVD
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NANOWIZARD
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DISCO-DICING…
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BAMBULAB
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MECHANICAL…
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TUBE-FURNACE
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DRIE
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CLR-ISO8-Lab…
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SW-COMSOL
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LEXT
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MINIEVAP
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CPD
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TIC3X
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CRYOMILL
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SW-CT
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PECVD-NANOFAB
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FRASCAN
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PARYLENE-DIENER
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DSC-DISCOVERY
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HENRY-MAGNET
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MAGNETRON
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WOOLLAM-RC2
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SUSS-MA8
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DEKTAK
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LABOTOM5
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WOOLLAM-MIR
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CITOPRESS
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PROTOMAT
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NIKON-NANO
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NIRQUEST512
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NMR
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ZEISS-NANO
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ULTRACENTRIFUGE
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3D-PRUSA-BLUE
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3D-PRUSA-BLACK
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3D-PRUSA-ORANGE
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KERR-MICROSCOPE
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LAKESHORE
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CHEMLAB-B1.16
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KEITHLEY-4200
|
||||||||||||||||||||||||
CHEMLAB-B1.18
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IS_NOVOCONTROL
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ZEISS-STAN
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FISCHIONE-TEM…
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KAUFMAN
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IR-RAMAN
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K70
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R2-PECVD
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LPCVD-SiN
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LASER-DICER
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LAURELL-NANO
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LIBS-FireFly
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||||||||||||||||||||||||
LIBS-Discovery
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LIBS-LabSys1
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LITESCOPE-LYRA
|
||||||||||||||||||||||||
LITESCOPE-MIRA…
|
||||||||||||||||||||||||
LPCVD-polySi
|
||||||||||||||||||||||||
UV-LASER
|
| Term | Name | Description | Max. attendees |
|---|---|---|---|
| 10.2. 09:30 - 12:00 | RIE-flourine-training | Attendees: Jakub Krčma, Ekaterina Pribytova, Laiba Bajwa | 3 |
| 10.2. 13:30 - 15:00 | Nanocalc-training | Attendees: Iryna Lukiienko | 1 |
| 10.2. 14:00 - 14:45 | Vacuum Oven C 1.38 | Basic training for the Vacuum Oven C 1.38 Attendees: Sára Hrdinová | 4 |
| 10.2. 14:00 - 15:00 | DIENER-training | Attendees: Laiba Bajwa | 3 |
| 12.2. 09:30 - 16:00 | MIRA-STAN 1/2 | Meeting point at the microscope. This is a two-step training, register for part 2 in our booking system. Obligatory prerequisites must be completed 2 days before the training. More information about the training is available on our <a href=”https://cfmoodle.ceitec.vutbr.cz/course/view.php?id=76”>Moodle</a>. Attendees: Eduard Jelínek, Navaj Shaikh, Saurabh Pathak | 4 |
| 12.2. 10:00 - 11:15 | Leicacoat StAn training | Meeting point: at the cleanroom filter (building A) Attendees: Martino Pistis, Elisa Cuccu | 4 |
| 13.2. 10:00 - 11:00 | Laser Dicer - basics | Basic training - how to cut a Si wafer. Attendees: Iryna Lukiienko | 2 |
| 13.2. 14:00 - 18:00 | Rigaku 3 - hands on | Hands on Attendees: Pedro Henrique de Oliveira Santiago | 1 |
| 17.2. 09:00 - 17:00 | Helios_basic (1/2) | Helios_basic (1/2): training for new users, demonstration part. Meeting point: entrance to StAn CLR labs (bldg. A, 1st floor). Bring your cleanroom stationery set if you have one. Register one slot (only) for the Helios_basic (2/2) hands-on session to complete the training curriculum. Attendees: Jiří Spousta, Jan Pišťák | 2 |
| 19.2. 09:30 - 12:00 | ICON-SPM basic training | 3 | |
| 23.2. 09:00 - 13:00 | Verios_basic (1/2) | Verios_basic (1/2): training for new users, demonstration part. Meeting point: entrance to StAn CLR labs (bldg. A, 1st floor). Bring your cleanroom stationery set if you have one. Register one slot for the Verios_basic (2/2) hands-on session to complete the training curriculum. Attendees: Kryštof Jasenský | 3 |
| 23.2. 10:30 - 11:15 | Nanofab interview - Meeting room C2.11 or C2.07 | This interview is mandatory for enrollment to the Safety excursion - Nanofabrication lab. ID schůzky: 347 469 442 329 50 Přístupový kód: Nh7js27A | 5 |
| 24.2. 12:15 - 12:50 | Safety excursion Chem lab | The Moodle course, Advanced Chemical Laboratory is MANDATORY for the Safety Excursion. https://cfmoodle.ceitec.vutbr.cz/course/index.php?categoryid=48. It must be finished 2 work days before the excursion. Attendees: Ekaterina Pribytova | 5 |
| 24.2. 13:00 - 13:50 | Safety excursion - Nanofabrication lab | Please enroll in this training only in parallel with the "Nanofab interview." Do not enroll in training ahead of time, but when you are sure you will be using nanofabrication techniques. It is possible to pass this training anytime during your access additionally (it takes place at least once a month). | 5 |
| 24.2. 13:55 - 14:20 | Safety excursion - Nanocharacterization lab | 10 | |
| 24.2. 14:25 - 14:55 | Safety excursion - StAn lab | Attendees: Eduard Jelínek | 10 |
| 27.2. 09:00 - 10:30 | Verios_basic (2/2) | Verios_basic (2/2): hands-on session. Bring your real sample(s) with you. Attendees: Kryštof Jasenský | 1 |
| 27.2. 10:30 - 12:00 | Verios_basic (2/2) | Verios_basic (2/2): hands-on session. Bring your real sample(s) with you. | 1 |
| 27.2. 12:30 - 14:00 | Verios_basic (2/2) | Verios_basic (2/2): hands-on session. Bring your real sample(s) with you. | 1 |