| 0:00 | 1:00 | 2:00 | 3:00 | 4:00 | 5:00 | 6:00 | 7:00 | 8:00 | 9:00 | 10:00 | 11:00 | 12:00 | 13:00 | 14:00 | 15:00 | 16:00 | 17:00 | 18:00 | 19:00 | 20:00 | 21:00 | 22:00 | 23:00 | |
MIRA-STAN
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UHV-LEEM
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KRATOS-XPS
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SUSS-WETBENCH
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UHV-PREPARATION
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RAITH
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WITEC-RAMAN
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CHEMLAB-B1.14
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VERSALAB
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FUME_HOOD-B1.14
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FUMEHOOD…
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CRYOGENIC
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ICON-SPM
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R2-PECVD
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R4…
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UHV-FTIR
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EVAPORATOR
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UHV-DEPOSITION
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LYRA
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UHV…
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HELIOS
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UHV…
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LVEM
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SEE-SYSTEM
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MIRA-EBL
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LIBS-FireFly
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LAKESHORE
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ML3-BABY
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UHV-MBE
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JASCO
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UHV-XPS
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RIGAKU9
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NANOSAM
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FTIR-CHEMLAB
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SUSS-MA8
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DIENER
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TIC3X
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UHV-SPM
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UHV-PLD
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LaserMIRA
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SUMMIT
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3D-PRUSA-BLACK
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PECVD
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SIMS
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3D-PRUSA-ORANGE
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PARYLENE-SCS
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PARYLENE-DIENER
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SNOM-NANONICS
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SAW-ACCUTOM
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RSA
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nanoCT
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MIRKA
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MINIFLEX
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RIE-CHLORINE
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SPINCOATER…
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Q-LAB
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RTP
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RIE-FLUORINE
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ACCURION_RSE
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RIGAKU3
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SUSS-RCD8
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SHAKER…
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TEST2
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NANOCALC
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CITOVAC
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ULTRAFAST-LASER
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US-CUTTER
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DWL
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JAZ3-CHANNEL
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VACUUM_OVEN-C1…
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FTIR
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VACUUM_OVEN-B1…
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UHV-CLUSTER
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VUVAS
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VISCOMETER
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WIRE-BONDER
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XEF2
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microCT
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ZWICK
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ZETASIZER
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UHV-LEIS
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UHV-MBE1
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STEMI
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FISCHIONE-160
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BET-ANAMET
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SW-BEAMER
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SW-LAB
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SW-TRACER
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LEICA-TXP
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TENUPOL
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Test Ondra 3
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UHV-MBE2
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Test O2
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ULTRACENTRIFUGE
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Test školení
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TEST-RFID2
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TGA96
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THEORY-SUPPORT
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TGA-DISCOVERY
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3D-PRUSA-BLUE
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MPS150
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ZEISS-NANO
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ELECTROWORKSHOP
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SW-CT
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DRIE
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DHR
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DIMPLING…
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DRYING_OVEN-B1…
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SPONGEBOB
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LECTROPOL
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FLOWBOX
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CPD
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4-POINT
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FTIRMAG
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FUMEHOOD…
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FUMEHOOD-HF
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FUMEHOOD…
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FUME_HOOD-B1.18
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CLARUS-680
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DAWN-HELEOS
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CRYOMILL
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MINIEVAP
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TEGRAMIN
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BET-DEGASSER
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ALD-BENEQ
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ARES
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APCVD
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NANOWIZARD
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ALD-FIJI
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DISCO-DICING…
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BAMBULAB
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VACUUM_OVEN…
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LEXT
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BRILLOUIN
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TORNADO-M4
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MECHANICAL…
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| CEITEC-NANO | ||||||||||||||||||||||||
TUBE-FURNACE
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CLR-ISO8-Lab…
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LEICACOAT-STAN
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SW-COMSOL
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GLOVEBOX
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VNA-MPI
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NMR
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DEKTAK
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LPCVD-polySi
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LPCVD-SiN
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PROTOMAT
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KERR-MICROSCOPE
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HENRY-MAGNET
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MAGNETRON
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WOOLLAM-RC2
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LABOTOM5
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LITESCOPE-LYRA
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WOOLLAM-MIR
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GLOVEBOX…
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DSC-DISCOVERY
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MONOWAVE
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CITOPRESS
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NANOSCAN
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NIRQUEST512
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WOOLLAM-VIS
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LITESCOPE-MIRA…
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LIBS-LabSys1
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VERIOS
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IS_NOVOCONTROL
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PECVD-NANOFAB
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LEICACOAT-NANO
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FRASCAN
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TITAN
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NANOINDENTER
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CHEMLAB-B1.16
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CHEMLAB-B1.18
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ZEISS-STAN
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LIBS-Discovery
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SCIA
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FISCHIONE-TEM…
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KAUFMAN
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IR-RAMAN
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K70
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KEITHLEY-4200
|
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LASER-DICER
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LAURELL-NANO
|
||||||||||||||||||||||||
UV-LASER
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| Term | Name | Description | Max. attendees |
|---|---|---|---|
| 24.11. 10:00 - 12.11. 15:00 | RAITH training individual | RAITH training for Mira users Attendees: Gyandeep Pradhan | 1 |
| 24.11. 10:30 - 11:15 | Nanofab interview - Meeting room C2.11 or C2.07 | This interview is mandatory for enrollment to the Safety excursion - Nanofabrication lab. ID schůzky: 319 779 632 749 3 Přístupový kód: Gq2BX9zw Attendees: Saurabh Pathak | 5 |
| 24.11. 15:00 - 16:30 | FTIR-CHEMLAB | Basic FTIR training for experienced users Attendees: Anna Jančík Procházková | 2 |
| 25.11. 09:00 - 11:30 | SEE-SYSTEM training | meeting point - in front of the user office C1.04 Attendees: Bindu Kalleshappa | 1 |
| 25.11. 09:00 - 13:00 | KRATOS-XPS | Basic training (session 1/2) - max 2 attendees. In case of interest for the training (when it is full) write to josef.polcak@ceitec.vutbr.cz. Attendees: Nicolò Rossetti, Václav Vít | 2 |
| 25.11. 12:15 - 12:50 | Safety excursion Chem lab | The Moodle course, Advanced Chemical Laboratory is MANDATORY for the Safety Excursion. https://cfmoodle.ceitec.vutbr.cz/course/view.php?id=151. It must be finished 2 work days before the excursion. Attendees: Hatef Bokaei Khelejan | 5 |
| 25.11. 13:00 - 13:50 | Safety excursion - Nanofabrication lab | Please enroll in this training only in parallel with the "Nanofab interview." Do not enroll in training ahead of time, but when you are sure you will be using nanofabrication techniques. It is possible to pass this training anytime during your access additionally (it takes place at least once a month). Attendees: Saurabh Pathak | 5 |
| 25.11. 13:55 - 14:20 | Safety excursion - Nanocharacterization lab | Attendees: Saurabh Pathak, Elena D'Angelo | 10 |
| 25.11. 14:25 - 14:55 | Safety excursion - StAn lab | Attendees: Mohamed Bensalem, Karan Singh Surana, Saurabh Pathak, Elisa Cuccu | 10 |
| 26.11. 09:00 - 13:00 | Verios_basic (1/2) | Verios_basic (1/2): training for new users, demonstration part. Meeting point: entrance to StAn CLR labs (bldg. A, 1st floor). Bring your cleanroom stationery set if you have one. Register one slot for the Verios_basic (2/2) hands-on session to complete the training curriculum. Attendees: Karan Singh Surana, Saurabh Pathak, Elisa Cuccu | 3 |
| 27.11. 09:00 - 10:30 | Verios_basic (2/2) | Verios_basic (2/2): hands-on session. Bring your real sample(s) with you. Attendees: Elisa Cuccu | 1 |
| 27.11. 10:30 - 12:00 | Verios_basic (2/2) | Verios_basic (2/2): hands-on session. Bring your real sample(s) with you. Attendees: Saurabh Pathak | 1 |
| 27.11. 12:30 - 14:00 | Verios_basic (2/2) | Verios_basic (2/2): hands-on session. Bring your real sample(s) with you. | 1 |
| 27.11. 13:00 - 15:00 | RIE-flourine-training | Attendees: Hugo Weisz, Fabian Majcen, Gyandeep Pradhan | 3 |
| 28.11. 09:00 - 13:00 | Rigaku 3 - basic | Bring your typipical sample Attendees: Nicolò Rossetti | 2 |
| 1.12. 09:30 - 11:00 | LEXT training | Attendees: Grigory Mathew | 2 |
| 15.12. 10:30 - 11:15 | Nanofab interview - Meeting room C2.11 or C2.07 | This interview is mandatory for enrollment to the Safety excursion - Nanofabrication lab. ID schůzky: 370 940 608 734 3 Přístupový kód: LL7vT9Y2 | 5 |
| 16.12. 12:15 - 12:50 | Safety excursion Chem lab | The Moodle course, Advanced Chemical Laboratory is MANDATORY for the Safety Excursion. https://cfmoodle.ceitec.vutbr.cz/course/view.php?id=151. It must be finished 2 work days before the excursion. | 5 |
| 16.12. 13:00 - 13:50 | Safety excursion - Nanofabrication lab | Please enroll in this training only in parallel with the "Nanofab interview." Do not enroll in training ahead of time, but when you are sure you will be using nanofabrication techniques. It is possible to pass this training anytime during your access additionally (it takes place at least once a month). | 5 |
| 16.12. 13:55 - 14:20 | Safety excursion - Nanocharacterization lab | 10 | |
| 16.12. 14:25 - 14:55 | Safety excursion - StAn lab | 10 | |
| 23.1. 09:30 - 16:00 | MIRA-STAN 1/2 | Meeting point at the microscope. This is a two-step training, register for part 2 in our booking system. Obligatory prerequisites must be completed 2 days before the training. More information about the training is available on our <a href=”https://cfmoodle.ceitec.vutbr.cz/course/view.php?id=76”>Moodle</a>. Attendees: Navaj Shaikh, Grigory Mathew, Karan Singh Surana, Saurabh Pathak, Nicolò Rossetti | 4 |